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【2h】

Stability and formation kinetics of TiN and silicides in the Ti/Si3N4 diffusion couple

机译：Ti / si3N4扩散偶中TiN和硅化物的稳定性及形成动力学

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作者
M. Paulasto; F. J. J. Van Loo; J. K. Kivilahti;
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年度 2015
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